產品資訊 Products

1. 添加劑不含硫，能維持半光鎳與全光鎳之間的電位差約120-180mv，故增加腐蝕性能

2. 鍍層拉伸應力低，柔軟度極佳，附著力良好

3. 消耗量少，經濟效益高，管理容易

1. 三液型使用，不含硫，故能維持半光鎳與全光鎳之間的腐蝕電位差可達到120-180mv增加腐蝕性能

2. 鍍層無拉伸力，柔軟度極佳，附著力良好

3. 平滑度高，全光鎳之被覆力強，不會產生雙層鍍鎳現象

4. 消耗量少，經濟效益高，管理容易

1. 在半光鎳與全光鎳之間，加鍍含硫量0.15-0.5%的鎳層可產生大於150mv的電位差，提高耐蝕性能

2. 結合力良好，韌性、整平性能佳

1. 填平度極佳，低電位走位良好

2. 鍍層含硫量低，應力相對降低，耐腐蝕性能佳

3. 上鉻性能好，不會產生白霧

4. 光亮度均一，出光速度快，可提高產能

5. 用量少，成本低，容易管理

1. 延展性極佳，內應力低，附著力優良

2. 光亮速度快，能縮短作業時間，降低成本

3. 使用壽命長，對雜質、不純物的容忍度高

4. 不易被活性碳吸附，管理容易

1. 延展性極佳，內應力低，附著力良好

2. 走位元性能佳，光亮速度快

3. 使用壽命長，對各種雜質、不純物的容忍度高

4. 內應力低，非常適合厚鍍鎳

1. 延展性極佳，附著力優良

2. 光亮速度極快，可在短時間得到鏡面的鍍層

3. 不易分解，對各種雜質容忍度高，故使用量及消 耗量低

4. 適用於滾鍍及掛鍍

1. 延展性極佳，內應力低，附著力優良

2. 可獲得均一且光亮鏡面之鍍層

3. 低電流區走位特優，適用于各種素材之電鍍

4. 對各種雜質、不純物的容忍度高

5. 對鍍鉻之被覆及活化性良好，不易造成霧狀

1. 可用於電鑄鎳功能性之電鍍

2. 鍍層白亮，走位元性能好佳，適用於鍍金、銀前之底層鍍鎳

3. 低電位覆蓋力強

4. 操作範圍寬廣，容易控制

5. 適用於滾鍍及掛鍍

1. 鍍層光亮性、柔軟性、對後續鍍鉻性能佳

2. 使用週期長，經濟效益高

3. 低電位覆蓋力強

4. 光澤速度快，能縮短作業時間，降低成本

5. 適用於滾鍍及掛鍍

1. 出光速度快，走位元性能佳

2. 延展性極佳，內應力低，附著力優良

3. 使用週期長，經濟效益高

4. 對金屬及有機雜質污染的容忍度高

1. 適用於鍍厚鎳，流平優異

2. 延展性好，內應力低，附著力優良

3. 出光速度快，能縮短作業時間，降低成本，增加 效益

4. 使用壽命長，對雜質、不純物的容忍度高

1. 鍍層柔軟，內應力低，延展性佳

2. 沉積速度快，均一電著力佳

3. 本液純淨度高，使用前不須活性碳過濾或弱電解

4. 可單獨使用，管理容易

1. 特別適用於防腐蝕性能嚴格的多層鎳電鍍工藝

2. 鍍層為針柱薄膜結構，組織細小密集，在鍍鉻時 可促進鉻鍍層的被覆能力

1. 具有優良的抗腐蝕性能

2. 內應力小，微孔數高，電鍍每分鐘平均微孔數可 達20000-38000顆/釐米

3. 鍍層光亮柔軟，不是消光，對後續鍍鉻的親鉻性 良好